原子层沉积特点 50字

原子层沉积（Atomic Layer Deposition，简称ALD）的特点是可以实现单层原子的控制沉积，具有很高的沉积均匀性和精确度。同时，它能够在复杂的表面拓扑结构上进行均匀覆盖，形成致密纳米薄膜，适用于微电子、纳米器件和光学涂层等领域。